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什么是LPCVD？

日期：2024-08-22 03:21
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摘要：
LPCVD--Low Pressure Chemical Vapor Deposition 低壓力化學(xué)氣相沉積法用于氧化硅、氮化物、多晶硅沉積,過(guò)程在管爐中執行，要求也相當高的溫度。
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