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普發(fā)真空：韓國半導體展會(huì )上展示真空解決方案
日期：2024-09-30 20:26
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摘要：
全球的真空供應商 Pfeiffer Vacuum (普發(fā)真空) 將于2014年2月12至14日參加韓國首爾舉辦的 Semicon Korea 韓國半導體展覽會(huì )。屆時(shí)參觀(guān)者可到展臺與 Pfeiffer Vacuum (普發(fā)真空) 就其真空解決方案交流意見(jiàn)?！拔覀兒芨吲d能在 Semicon Korea 韓國半導體展覽會(huì )上隆重介紹我們重要的真空解決方案。我們憑借這些新的產(chǎn)品樹(shù)立整個(gè)真空行業(yè)的新標桿”，Pfeiffer Vacuum Technology AG 公司董事會(huì )成員 Matthias Wiemer 博士如此說(shuō)道。Pfeiffer Vacuum (普發(fā)真空) 將在 D 廳 5730 號展臺展示新產(chǎn)品：
A4 系列干式真空泵
A4 系列無(wú)油多級羅茨泵的抽氣速度可達 100 至 1700 m3/h。這種節能且的泵是應對半導體和鍍膜工業(yè)中苛刻工藝要求的理想選擇。耐腐蝕材料和較高的氣體流量使此系列的泵適用于，例如 CVD工藝。
A 200 L 干式真空泵
A 200 L 無(wú)油多級羅茨泵具有體積小、抽氣速度快且時(shí)間短的特點(diǎn)。干式真空泵適合在潔凈室內運行，適宜用于潔凈環(huán)境，如Load-Lock和Transfer工藝流程，以及其他無(wú)腐蝕性應用。此外，A 200 L 還易于集成到半導體生產(chǎn)設備中且在節能方面表現。
磁懸浮渦輪分子泵 ATH 2804 M 和 ATH 3204 M
ATH-M 系列磁懸浮渦輪分子泵采用一個(gè)有源 5 軸磁懸浮軸承來(lái)監測轉子的位置。這種軸承在實(shí)現高速安靜運轉的同時(shí)，也能長(cháng)期的穩定性和性。高真空泵配備上的這項以及的抽氣能力，使其成為半導體生產(chǎn)，是蝕刻工藝，以及許多其他工業(yè)應用的不二選擇。
Pfeiffer Vacuum (普發(fā)真空) 還將出席2014年3月18 至20日上海舉辦的 Semicon China 半導體展覽會(huì )。
Semicon Korea 韓國半導體展覽會(huì )地址：
Convention & Exhibition Center (COEX)
159 Samsung-dong, Gangnam-gu,
Seoul 135731, Korea
D 廳 5730 號展位
Pfeiffer Vacuum 的 A4 系列干式真空泵
A4 系列干式真空泵
A4 系列無(wú)油多級羅茨泵的抽氣速度可達 100 至 1700 m3/h。這種節能且的泵是應對半導體和鍍膜工業(yè)中苛刻工藝要求的理想選擇。耐腐蝕材料和較高的氣體流量使此系列的泵適用于，例如 CVD工藝。
A 200 L 干式真空泵
A 200 L 無(wú)油多級羅茨泵具有體積小、抽氣速度快且時(shí)間短的特點(diǎn)。干式真空泵適合在潔凈室內運行，適宜用于潔凈環(huán)境，如Load-Lock和Transfer工藝流程，以及其他無(wú)腐蝕性應用。此外，A 200 L 還易于集成到半導體生產(chǎn)設備中且在節能方面表現。
磁懸浮渦輪分子泵 ATH 2804 M 和 ATH 3204 M
ATH-M 系列磁懸浮渦輪分子泵采用一個(gè)有源 5 軸磁懸浮軸承來(lái)監測轉子的位置。這種軸承在實(shí)現高速安靜運轉的同時(shí)，也能長(cháng)期的穩定性和性。高真空泵配備上的這項以及的抽氣能力，使其成為半導體生產(chǎn)，是蝕刻工藝，以及許多其他工業(yè)應用的不二選擇。
Pfeiffer Vacuum (普發(fā)真空) 還將出席2014年3月18 至20日上海舉辦的 Semicon China 半導體展覽會(huì )。
Semicon Korea 韓國半導體展覽會(huì )地址：
Convention & Exhibition Center (COEX)
159 Samsung-dong, Gangnam-gu,
Seoul 135731, Korea
D 廳 5730 號展位
Pfeiffer Vacuum 的 A4 系列干式真空泵
